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第二五三章 PECVD设备(2/3)

一台ecvd设备的个头是相当大的,也是所有三种设备中个头最大的。李想拿出来的这套设计图纸,如果一机床能够造出来的话,那么这个大家伙将会拥有.8米的宽度,10.8米的长度以及.2米的高度,而它的总重量也会达到恐怖的5吨!

这个尺寸起来有些模糊,换算成一下实际的,那就是大家伙儿应该都见过平房吧,就是那种宽.5米,长大概在5.5米左右的平房,差不多四间这么大的平房才能够摆下这么一个大家伙!

没有办法啊,因为所有的镀膜工作都会在这个大家伙的内部发生的,而且镀膜的时候对于无尘环境的要求极高,因此这个大家伙有很大一部分都属于高洁净度的洁净室甚至是真空环境。再加上工作腔在进行反应的时候,会产生极大的热量,因此光是冷却部分,也要占据极大的空间。

这个大家伙主要有五个工作室组成的,这五个工作室中有两个是工艺室,是专门用于给玻璃基板进行镀膜反应的反应腔,还有一个是装载腔,是用来装载玻璃基板的;一个传送腔,是用来把装载腔的玻璃基板传送到工艺室中进行镀膜反应的;最后一个就是卸载腔,功能就是将反应完成的玻璃基板卸载出设备的。

装载腔里面有二十个格子,里面可以一次性盛放二十片基板,整个装载腔是真空环境,一个真空泵和一个大气罗茨泵在基板放好了,舱门关闭之后,可以将整个装载腔内的空气抽出。在装载腔的外部有和腔室底部的波纹管相通的氮气管道,是用来控制腔室内基板放置的高度的;还有排气管道,是用来恢复大气状态的,另外还有皮拉尼真空计和b-a真空计。

传送腔,里面的主要部件就是一个真空机械手,在外面还有两个大气机械手,这种机械手其实很简单,由支架、碳素钢叉和导轨组成的。支架上面有十层碳素钢叉,为了保证基板的平稳,每层的碳素钢叉有四根,这样一个支架上面就是足足四十根碳素钢叉。之所以采用了碳素钢,就是为了增加支架的刚度,减少基板和叉子的下垂度,毕竟一片玻璃基板的重量也是很大的。

至于最重要的工艺室,里面的设计就更复杂了。一个工艺腔是由十个反应室和十个冷却箱组成的,各自之间通过铰链相互连接,具体的布局就是一层冷却箱一层反应室然后再一层冷却箱,这样可以保证充分的冷却。反应室的门是由弹簧和铝金属板构成的,通过弹簧将铝金属板压在腔上,保持关闭状态,以减少工艺腔的泄漏率。

十个反应室是平行并列的,因此可以同时进行四层膜的反应,而不会产生交叉污染。只不过,每个反应室内部的高度都不是很高,只有不到0毫米的高度,因此在装卸基板的时候必须要心,避免基板受到伤害。

除了这些主要的腔室之外,这个大家伙还集成了供气系统、排气系统、除害系统、水循环系统以及一些附件。总得来讲,是一套比较复杂的设备。但这套设备对于加工精度的要求并不是那么高,比起前段时间一机床给宏达电子加工的那台内存颗粒触点处理机来,这套ecvd设备的加工精度要差的远了。

毕竟这玩意儿的主要作用是用来进行离子反应的,而不是和内存生产线中的内存颗粒触点处理机那么要求工作精度的,因此这套设备的加工工艺并不难。

这套设备之所以能卖出天价来,主要就是里面的核心反应室的设置,也就是工艺气体进入到反应室之后的反应过程。参与离子反应的工艺气体,根据不同的镀膜需求,是要选用不同的工艺气体的,硅烷、磷烷、氨气、笑气、氮气、氢气,每一种工艺气体在反应室里的加温温度都是不一样的,所产生的等离子状态也是不一样的,产生的镀膜效果也是不一样的。

虽从技术上来讲这个过程在这套设备中是可控的,但只有彻底掌握了这套技术的人,才
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